中商情報網(wǎng)訊：掩模版又稱光掩模、光罩、掩膜版，是微電子加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。掩模版作為圖形信息的載體，通過曝光過程，將圖形轉(zhuǎn)移到基體材料上，從而實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移。國家相關(guān)支持政策明確了半導(dǎo)體行業(yè)在國民經(jīng)濟(jì)中的戰(zhàn)略地位。掩模版作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的上游核心材料，技術(shù)壁壘高，國內(nèi)自產(chǎn)率低，長期依賴國外進(jìn)口，在當(dāng)前貿(mào)易摩擦、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逆全球化的國際形勢下，國產(chǎn)替代大勢所趨。

近年來，國家相關(guān)部門從財政、稅收、技術(shù)、人才、知識產(chǎn)權(quán)等多個角度對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)及其關(guān)鍵材料給予了政策支持，為掩模版行業(yè)及其上下游行業(yè)創(chuàng)造了良好的經(jīng)營環(huán)境，有力地推動了我國掩模版行業(yè)的發(fā)展。掩模版行業(yè)具體政策如下：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理