中商情報網訊：掩模版又稱光掩模、光罩、掩膜版，是微電子加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。掩模版作為圖形信息的載體，通過曝光過程，將圖形轉移到基體材料上，從而實現圖形的轉移。國家相關支持政策明確了半導體行業在國民經濟中的戰略地位。掩模版作為半導體產業的上游核心材料，技術壁壘高，國內自產率低，長期依賴國外進口，在當前貿易摩擦、半導體產業逆全球化的國際形勢下，國產替代大勢所趨。

近年來，國家相關部門從財政、稅收、技術、人才、知識產權等多個角度對半導體產業及其關鍵材料給予了政策支持，為掩模版行業及其上下游行業創造了良好的經營環境，有力地推動了我國掩模版行業的發展。掩模版行業具體政策如下：

資料來源：中商產業研究院整理