近日，有媒體報(bào)道稱，國內(nèi)光刻機(jī)巨頭上海微電子，舉行了中國首臺(tái)2．5D／3D先進(jìn)封裝光刻機(jī)發(fā)運(yùn)儀式。同時(shí)還有媒體報(bào)道稱，這不僅是國內(nèi)首臺(tái)，同時(shí)也是達(dá)到了全球頂尖水平。

于是網(wǎng)友們又沸騰了，激動(dòng)不已，各種“沸騰式”的文章、評(píng)論見諸媒體，大家都認(rèn)為有了這臺(tái)光刻機(jī)，國內(nèi)芯片工藝說不定能夠提高了，不必那么依賴ASML了。

為何這些網(wǎng)友會(huì)這么激動(dòng)，原因在于當(dāng)前制造芯片時(shí)，必須用到光刻機(jī)，在所有的半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機(jī)的成本占到30％，非常核心。

貴當(dāng)然不要緊，能用錢解決的都不是問題，問題是進(jìn)入7nm必須用到EUV光刻機(jī)，全球僅ASML能夠生產(chǎn)，且無法賣到中國大陸來，這就是大問題了，有錢也買不著。

所以國內(nèi)一直希望能夠自研光刻機(jī)，特別是EUV光刻機(jī)，這樣我們就能夠不靠ASML也能進(jìn)入7nm了，中芯國際可是一直在等EUV光刻機(jī)的，等不到，就進(jìn)入不了7nm。

所以上海微電子一說交付首臺(tái)先進(jìn)光刻機(jī)，且達(dá)到了全球頂尖水平，大家馬上覺得是不是追上ASML了，是不是就是EUV光刻機(jī)了？是不是意味著我們的制造工藝能進(jìn)入7nm了？

事實(shí)上，這臺(tái)光刻機(jī)并不能幫助我們的芯片工藝進(jìn)入7nm，大家且慢激動(dòng)，且慢沸騰，此光刻機(jī)非彼光刻機(jī)。

在芯片制造過程中，有兩種光刻機(jī)，一種叫做前道光刻機(jī)，一種叫做后道光刻機(jī)，對(duì)應(yīng)的是芯片制造工藝流程中的前道工藝、后道工藝。

前道光刻機(jī)就是我們平時(shí)關(guān)注的光刻機(jī)，ASML的EUV光刻機(jī)，也是前道光刻機(jī)，用于把電路圖刻到硅晶圓上的，這才是我們最缺少的、急需突破的光刻機(jī)。

而封裝光刻機(jī)是后道光刻機(jī)，是用于封測(cè)階段的，其原理、作用都是完全不一樣的，這種光刻機(jī)，我們并不缺少，上海微電子這次交付的就是后道光刻機(jī)，從圖片就可以看出來，這是一臺(tái)2．5D／3D先進(jìn)封裝光刻機(jī)。

在芯片封測(cè)上，大陸有三大巨頭，分別是長蘇長電、通富微電、天水華天，這三大巨頭可以排進(jìn)全球前10，目前能夠封測(cè)的芯片都達(dá)到了5nm，都是全球領(lǐng)先水平。

所以在封測(cè)這一塊，我們就不缺技術(shù)，也不缺封測(cè)用的光刻機(jī)，也不缺國產(chǎn)廠商，我們最需要的是前道光刻機(jī)的突破，這才是關(guān)鍵。

當(dāng)然，并不是指這臺(tái)先進(jìn)封測(cè)光刻機(jī)不好，只是說它還解決不了我們芯片工藝前進(jìn)的問題，大家別混為一談了。