眾所周知，當(dāng)芯片工藝進(jìn)入7nm后，就需要用到一種光刻機(jī)，叫做EUV光刻機(jī)（極紫外線光刻機(jī)），采用的是13．5nm的紫外線光源。

而DUV光刻機(jī)，主要采用的是193nm的光源，理論上可以經(jīng)多重曝光后用到7nm，但實(shí)際沒(méi)有廠商這么干，因?yàn)槎嘀仄毓饬悸蚀蠓冉档停杀痉浅８撸也豢煽亍?/span>

而EUV光刻機(jī)，只有ASML一家廠商能生產(chǎn)，所以任何芯片廠商，想要生產(chǎn)7nm及以下的芯片，就得找ASML買光刻機(jī)。

而ASML在2015年推出第一代EUV光刻機(jī)WINSCAN NXE：3400B之后，就一直是各大想生產(chǎn)7nm及以下芯片廠商爭(zhēng)搶的對(duì)象。特別是臺(tái)積電、三星、intel這三大廠商，誰(shuí)能最先、最快、最多買到EUV光刻機(jī)，誰(shuí)就有了優(yōu)勢(shì)和底氣。

之前中芯國(guó)際在2018年也找ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，不過(guò)4年過(guò)去了，依然沒(méi)拿到貨，因?yàn)槊绹?guó)不允許ASML賣EUV光刻機(jī)給我們。

而在這4年之中，ASML的EUV光刻機(jī)也升級(jí)了2代，2019年從NXE：3400B升級(jí)到NXE：3400C，再2021年升級(jí)為NXE：3600D，這三代光刻機(jī)的數(shù)值孔徑為0．33，提升的更多是處理速度上面。

而現(xiàn)在ASML再次推出新一代EUV光刻機(jī)，這次將數(shù)值孔徑提升到了0．55，而型號(hào)有兩種，分別是EXE：5000和EXE：5200，相比于上一代EUV光刻機(jī)，可以將芯片縮小1．7倍、同時(shí)密度增加2．9倍，全面支持2nm及以下芯片，乃至埃米級(jí)工藝節(jié)點(diǎn)。

按照ASML的說(shuō)法，目前intel已經(jīng)簽訂了一筆EXE：5200的訂單，而EXE：5200系統(tǒng)的成本將顯著超過(guò)3．4億美元（約22億人民幣）。

intel為何搶先下訂單，當(dāng)然是想在2nm芯片的爭(zhēng)霸賽中占到先機(jī)，更希望能夠比臺(tái)積電、三星更領(lǐng)先，畢竟英特爾一直表示要重新提振美國(guó)的芯片制造業(yè)。

這22億元的價(jià)格，估計(jì)也就只有intel、三星、臺(tái)積電買得起了吧，其它的代工廠，估計(jì)都難得買得起了，真的是太貴了。