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無錫工廠引入EUV設備還有轉機?SK海力士回應來了

2021-11-24 來源:OFweek電子工程網
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關鍵詞: 光刻機 半導體 存儲芯片

11月24日消息,據外媒報道,就SK海力士打算引入EUV光刻機到其中國無錫工廠被阻這一傳言,SK海力士CEO李錫熙予以否認。

此前,曾有消息稱SK海力士希望引入ASML(阿斯麥)最先進的EUV設備,升級其無錫芯片廠的設備產品,以提高量產能力,控制成本并加速生產效率。

不過,SK海力士這一決定受到了美國方面的反對,理由是向中國運送此類先進工具可能被用來加強中國的軍事力量。

一名白宮高級官員拒絕就美國官員是否會允許SK Hynix將EUV工具帶到中國的問題發表具體評論。但這位官員表示,拜登政府仍專注于阻止中國利用美國及其盟國的技術來發展最先進的半導體制造,以幫助中國實現軍事現代化。

早在今年舉行的第14屆半導體日儀式上,SK海力士CEO李錫熙就表示;SK海力士從7月開始在韓國利川工廠使用EUV光刻設備批量生產1A(第4代)納米產品。關于引進EUV設備到中國無錫工廠一事,我們還有足夠的時間,所以我們將通過與美國政府的合作,把設備引進到該工廠。

據悉,SK海力士是全球最大的DRAM存儲芯片供應商之一。從智能手機到數據中心,幾乎所有領域的電子設備都可以看到DRAM存儲芯片。在全球DRAM市場上,SK海力士是第二大供應商,市場份額為29%。而三星則是以高達42%全球市場份額占據第一,兩家公司的合計份額高達71%。

并且,根據公開資料顯示,SK海力士無錫工廠DRAM產能占SK海力士全部產能的50%,在全球總量中占據15%,無錫工廠的產量在全球電子產業鏈中占據重要地位,其任何重大變化都可能對全球儲存芯片市場產生影響。

目前事態發展還未明確,SK海力士是否能如愿引進EUV光刻機,還需等待后續消息。



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