市場傳出，韓國內存大廠SK海力士(SK Hynix)原本想要升級無錫芯片廠，卻因美國不希望先進設備進入中國、出手阻撓，使計劃蒙上陰影。

路透社獨家18日引述消息人士報導，SK海力士計劃利用歐洲半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding NV)生產的最新極紫外光(EUV)微影設備，升級無錫一座量產廠房。不過，這項計劃卻因美方阻撓而岌岌可危。

在過去，美國都以北京政府可能用來強化軍事力量為由，不讓先進半導體設備進入中國。白宮一名資深官員不愿評論美方是否允許SK海力士將EUV設備進口至中國，僅表示拜登政府仍在盡力防范北京當局利用美國及其盟友的科技開發尖端半導體、協助中國軍隊現代化。

無錫廠占據SK海力士約半數DRAM產能，全球市占率則為15%，對全世界電子業至關重要。任何重大變化，都可能對內存市場造成沖擊。

熟知SK海力士中國業務的人士透露，這兩三年來新式芯片對產能的占比愈來愈高，該公司需要EUV設備來控制成本、加快生產速度。若問題無法在幾年內解決，SK海力士恐在市場屈居劣勢。三星電子(Samsung Electronics)、美光(Micron Technology)也都開始導入ASML的EUV設備，但并未在面臨出口限制的地點使用這些機臺。