據中國光谷消息，近日，國內首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產化硅光PDK（工藝設計套件）、TDK（測試設計套件）及ADK（封裝設計套件）流片服務平臺正式在光谷投用，該平臺由國家信息光電子創新中心（NOEIC）建設運營，標志著光谷企業在硅光領域實現又一關鍵突破。

（國家信息光電子創新中心硅光芯片，來源：中國光谷）

國家信息光電子創新中心2018年在光谷揭牌，承載解決我國信息光電子制造業關鍵共性技術協同研發和首次商業化應用的戰略任務。7年多來，已服務支撐300余家單位，完成800多次訂單，并突破了1.6T硅光互連芯片、2T芯粒、145GHz強度調制器等關鍵技術。

東湖高新區前瞻布局，支持國家信息光電子創新中心建設12寸硅光芯片開發服務平臺，通過提供穩定、開放、完善的MPW（多項目晶圓）流片服務，推動產業從“單點突破”向“集群化、規模化”發展。該平臺創新構建硅光MPW服務模式，通過將多個芯片設計集成于同一晶圓流片，實現成本分攤，大幅降低研發門檻。平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達到商用要求，其加工精度、波導損耗、光耦合效率等指標達國際先進水平。除了PDK外，平臺還集成了TDK和ADK，可提供芯片從集成設計到封裝驗證的全流程支撐，可滿足科研成果轉化和產品研制中的快速迭代需求，助力項目加速落地。

據悉，國產硅光芯片流片所面臨的挑戰，是一個環環相扣的系統性難題。在共享經濟日益成熟的今天，多項目晶圓（MPW）服務，正成為破解當前國產硅光流片困局最現實、也最關鍵的策略之一。MPW通過將多個工藝兼容的芯片設計集成于同一晶圓上進行流片，實現成本分攤，大幅降低中小企業和科研機構的研發門檻。

對高校和初創公司而言，MPW將原本高昂的掩膜版及晶圓制造成本，分攤給數十個設計項目，使單次流片成本降至原來的十分之一甚至更低，有力支撐了科研與小規模創新的持續開展。對設計公司而言，MPW使其能以更低成本進行多輪設計迭代，快速驗證設計理念與IP模塊，加速技術成熟，從而更敢于投入前沿探索。而代工廠也在處理多樣化設計的過程中，積累起寶貴的工藝數據，持續反哺PDK的完善與工藝的穩定，形成“流片越多、工藝越成熟”的良性循環。