據(jù)報(bào)道，英特爾已加大對(duì)荷蘭芯片設(shè)備制造商ASML High NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)的購(gòu)買力度，意圖為其Intel 14A（1.4nm）工藝“傾盡全力”。

High NA EUV光刻機(jī)被稱為芯片市場(chǎng)上的“圣杯”，這不僅是因?yàn)槠涓甙旱膬r(jià)格，還因?yàn)槠涔饪藤|(zhì)量。Jerry Capital的一篇分析文章披露，英特爾計(jì)劃從ASML采購(gòu)2臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)，比之前多購(gòu)1臺(tái)，這意味著英特爾將加大對(duì)未來(lái)工藝的芯片制造支出。

英特爾的14A工藝將采用High NA EUV光刻技術(shù)?？紤]到該工藝的最終成果，這對(duì)于英特爾晶圓代工（IFS）部門來(lái)說(shuō)將是一次重大的革新。英特爾已明確表示，如果Intel 14A節(jié)點(diǎn)未能獲得客戶的廣泛采用，該公司將放棄高端節(jié)點(diǎn)的競(jìng)爭(zhēng)，因此Intel 14A對(duì)IFS來(lái)將是“生死攸關(guān)”時(shí)刻。迄今為止，High NA EUV 設(shè)備已被臺(tái)積電、三星、SK海力士和英特爾等公司采用，并將用于下一代產(chǎn)品。

據(jù)稱，單臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)售價(jià)約3.7億美元（約合人民幣26億元），而英特爾僅在光刻設(shè)備上就可能花費(fèi)10億~20億美元（約合人民幣142億元）。這意味著英特爾很可能成為High NA EUV光刻機(jī)的主要采用者之一。隨著英特爾瞄準(zhǔn)Intel 14A工藝的驚人發(fā)布，圍繞該工藝的代工廠資本支出將大幅增長(zhǎng)。

鑒于英特爾依賴這些節(jié)點(diǎn)來(lái)維持其代工部門和美國(guó)芯片制造的雄心，其能否成功攻克Intel 18A（1.8nm）和14A等工藝將充滿挑戰(zhàn)。（校對(duì)/趙月）