眾所周知，EUV光刻機是制造7nm以下芯片，必須用到的半導體設備，且全球僅ASML一家能夠生產，還不能賣給中國。

所以中國的芯片制造工藝要進入7nm以下，千難萬難，除非中國能夠自己制造出EUV光刻機出來，或者換一條路，不采用光刻工藝……

于是很多人就奇怪了，中國的模仿能力不是一流的么？那么將EUV光刻機拆了，將里面的零件一比一復制，不就造出來了么？

事實上，要造光刻機真沒這么簡單，之前網上流傳一個故事，說ASML的工程師對中國去參觀學習的工程師說，給你們光刻機的圖紙，你們都造不出光刻機來。

雖然不是真假，看起來也有一點夸張，但實情也許還真是如此，特別是EUV光刻機，真的給我們圖紙，也未必造的出來。

首先EUV光刻機非常復雜，全球有5000多家供應商，一共有45萬多套零件，注意這里的單位是“套”，所謂的“套”，是指已經做了一些整合的零件了。

這45萬多套零件，實際上還可以再拆分，如果按不可拆卸的最小單位來計算零件，據稱至少超過300萬個。并且這里面很多核心零件，是無法模仿的，有些零件甚至全球僅有那么一家廠商能夠制造。

而這家廠商和ASML就有獨家合作協議，比如蔡司的物鏡系統等，我們拿什么去一比一復制出來？我們難道還難自己搞定5000多家供應鏈，自己制造出這300多萬個零件？所以還真是給圖紙，都造不出來。

其次，EUV光刻機也非常復雜，就算安裝調試都是一個大工程，目前的EUV光刻機，重量超過150萬，也就是15萬公斤。

在ASML交付的時候，并不是一臺整的機器交付的，而是分成若干個零件交付，運輸的時候，一臺EUV光刻機就需要250個貨箱來運輸。

然后運輸到目的地之后，需要ASML安裝250個裝配工程師，再花180天的時間，才能安裝調試完成，中間需要大量的技術、經驗等。

所以不吹不黑，就算ASML將圖紙給我們，一方面我們找不到這些合適的零件，二是我們找到了零件，都未必能夠安裝調試完成。更何況中間還有各種專利限制。

所以，研發EUV光刻機，真不是一件容易的事情，我們一方面雖然不能自己人滅自己人威風，要有信心，但另外一方面也要清楚，這事真的不容易，要有清醒認識，要有打一場攻堅戰的準備。