據(jù)媒體報(bào)道指ASML表示已獲得許可對中國供應(yīng)先進(jìn)的DUV光刻機(jī)，而比之前可以對中國供應(yīng)的1980Di更進(jìn)一步，這次獲得許可出口的光刻機(jī)為更先進(jìn)的2000i，這意味著荷蘭和ASML終于清醒了。

今年上半年，ASML表示它可以對中國出口的最先進(jìn)光刻機(jī)為1980Di，1980Di為38納米光刻機(jī)，可以通過多重曝光的方式實(shí)現(xiàn)28納米工藝生產(chǎn)，不過卻會造成成本更高的問題，而2000i比1980Di更先進(jìn)，可以更好地生產(chǎn)28納米，甚至還可以用多重曝光的方式實(shí)現(xiàn)7納米工藝。

當(dāng)年臺積電研發(fā)的第一代7納米工藝就是以2000i這款DUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)的，由此足可以看出2000i有多么先進(jìn)，而此前在眾所周知的壓力下，ASML被限制出售14納米以下的DUV光刻機(jī)，到了今年上半年2000i就被限制對中國出口了。

如今荷蘭突然轉(zhuǎn)變態(tài)度，給ASML發(fā)放許可證，可以將2000i對中國出售，意味著荷蘭和ASML的態(tài)度發(fā)生了重大改變，導(dǎo)致他們的態(tài)度發(fā)生轉(zhuǎn)變，可能在于中國光刻機(jī)技術(shù)的進(jìn)展，以及全球芯片市場的變化。

ASML的1980Di、2000i都是浸潤式光刻機(jī)，浸潤式光刻技術(shù)為芯片制造工藝進(jìn)入28nm及更先進(jìn)工藝的關(guān)鍵技術(shù)，日前中國有知名媒體披露消息指中國的28納米光刻機(jī)將在年底前量產(chǎn)，這意味著國產(chǎn)光刻機(jī)解決了浸潤式光刻技術(shù)，如此中國的浸潤式光刻機(jī)可望得到加速發(fā)展，如此情況下促使ASML抓住時(shí)間窗口對中國出口2000i光刻機(jī)，搶占市場。

其次則是全球芯片行業(yè)發(fā)生重大變化，由于芯片供給過剩，三星、臺積電和Intel都有放緩擴(kuò)張的跡象，三星甚至在去年底搶購的10臺EUV光刻機(jī)如今都只能放在倉庫里，因?yàn)榻衲暌患径蕊@示三星的庫存芯片金額高達(dá)3400億元，被迫減產(chǎn)，如此情況下促使ASML尋找新的客戶，而中國當(dāng)前正需要大舉采購光刻機(jī)，中國市場成為ASML不可舍棄的市場。

這種跡象其實(shí)今年二季度就已有所顯現(xiàn)，去年下半年和今年一季度ASML對中國的光刻機(jī)出口大幅減少，中國為它貢獻(xiàn)的收入低至8%，但是到了今年二季度中國市場為ASML貢獻(xiàn)的收入占比猛增至24%，荷蘭的出口數(shù)據(jù)也顯示對中國的芯片設(shè)備出口猛增。

對比之下，荷蘭和ASML一味順從美國的要求，然而美國芯片行業(yè)卻并未因此給予他們回報(bào)。美光去年研發(fā)繞開EUV光刻機(jī)的1β工藝，近期Intel又傳出重拾DSA技術(shù)同樣意圖繞開EUV光刻機(jī)，這都顯示出美國芯片行業(yè)并未因?yàn)锳SML的順從而大舉采購EUV光刻機(jī)，相反還試圖擺脫ASML，這讓ASML相當(dāng)不滿。

美國芯片行業(yè)試圖繞開EUV光刻機(jī)，在于EUV光刻機(jī)實(shí)在太貴了，第一代EUV光刻機(jī)售價(jià)達(dá)到1.2億美元，第二代EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)售價(jià)達(dá)到4億美元，昂貴的價(jià)格讓美國芯片望而卻步，而且如今美國芯片行業(yè)也在衰退，至今已有四家美國芯片企業(yè)出現(xiàn)虧損，Intel和美光正是虧損最嚴(yán)重的兩家芯片企業(yè)，他們試圖繞開EUV光刻機(jī)降低成本也就在情理之中。

ASML當(dāng)然會不滿，美國不讓賣EUV光刻機(jī)給中國，美國芯片又不賣，如今美國還不允許ASML將技術(shù)成熟的DUV光刻機(jī)賣給中國，這是不給ASML活路啊。就在2005年之前，ASML那時(shí)候還得看著飛利浦的眼色行事，ASML可不希望回到那么艱難的日子。

ASML為荷蘭最大的出口企業(yè)，ASML的出口深刻影響著荷蘭的經(jīng)濟(jì)，顯然荷蘭和ASML在徘徊了數(shù)個(gè)月之后，終于清醒認(rèn)識到中國市場是如此重要，如果主動舍棄中國市場，那么他們都將受到重創(chuàng)，允許ASML對中國出口先進(jìn)光刻機(jī)是最有利的選擇，他們最終選擇了正確的道路。