近日，媒體報道稱，日本也正式跟隨美國，開始對芯片設(shè)備進(jìn)行限制了。

按照媒體的報道稱，日本將對23種半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行限制，而這23種設(shè)備，涉及到3項清洗設(shè)備、11項薄膜沉積設(shè)備、1項熱處理設(shè)備、4項光刻設(shè)備、3項刻蝕設(shè)備、1項測試設(shè)備。

日本稱，這不是特意針對中國，也不是跟隨美國，他針對的是全世界，所有國家和地區(qū)都會限制，只要是非同盟國、友好國家，需要出口這些相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備時，就需要單獨(dú)申請、獲得政府的許可。

但很明顯，真正受影響的，還是中國、俄羅斯這樣的非日本同盟國的國家和地區(qū)，日本不可能限制美國、歐盟等地區(qū)的設(shè)備進(jìn)口。

很多人表示，目前國內(nèi)的半導(dǎo)體設(shè)備、材料等非常依賴美國、日本、荷蘭等地，現(xiàn)在美國限制、日本限制、荷蘭也限制，那么對中國芯片產(chǎn)業(yè)會是一個巨大的打擊。

還有人表示，國內(nèi)目前采用全國產(chǎn)設(shè)備、技術(shù)來生產(chǎn)芯片，可能只有90nm，所以有些網(wǎng)友表示，那豈不是接下來，國產(chǎn)芯片工藝，可能會退回到90nm？

要我說，這就有點杞人憂天了，退回到90nm是不可能的，真正受影響的，只是14nm以下的先進(jìn)工藝，成熟工藝不受影響。

按照半導(dǎo)體的制程，有媒體對日本限制的這23個品種（實際上是30類，不僅包含設(shè)備，還包含半導(dǎo)體制程中的護(hù)膜（Pellicle）類）進(jìn)行分析。

可以很明顯的看到，主要針對的還是EUV技術(shù)，以及14nm以下的工藝，購買這些先進(jìn)設(shè)備需要許可證，至于14nm以上的工藝，并不會受到影響，這些設(shè)備的購買，不需要許可證。

而荷蘭ASML的光刻機(jī)限制，其實也是差不多的，TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒式光刻系統(tǒng)不能出口，而之前的還是能夠出口，比如TWINSCAN NXT:1980Di這種浸潤式光刻機(jī)，是可以出口的，而它能夠支持到14nm工藝的。

所以，大家別人云亦云，聽風(fēng)就是雨，完全沒有要回退到90nm這回事，另外就算我們?nèi)坎捎脟a(chǎn)設(shè)備/技術(shù)/技術(shù)，也不會是90nm。

但不可否認(rèn)的是，日本也加入限制后，對于我們向14nm以下工藝的進(jìn)發(fā)，還是很受影響的，這個限制帶來的影響值得我們高度重視。