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反超臺積電、三星?英特爾1.8nm芯片今年內流片

2022-09-30 來源:互聯網亂侃秀
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關鍵詞: 臺積電 英特爾 三星

眾所周知,目前在先進芯片工藝上能夠競爭的,也就只有三星臺積電、intel了,其它的晶圓廠,基本上都沒進入10nm,可以說沒資格與三大巨頭競爭。

當然,三星、臺積電目前的技術是3nm,而英特爾是7nm,相差還是比較大的,但是intel一直在“磨刀霍霍”,想盡快追上三星、臺積電,發力晶圓代工。

與此同時,英特爾將自己的工藝全部重新命名,改為Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A及Intel 18A。

近日,英特爾CEO在創新大會上表示,英特爾計劃在4年內搞定5代CPU工藝,也就是從今年到2025年這4年,要搞定從Intel 7到Intel 18A的這5代工藝。

其中Intel 7代表的是12代酷睿上首發的工藝,對比的是臺積電、三星的7nm工藝,而intel 20A指的是2nm,intel 18A指的1.8nm。

英特爾為了佐證自己的能力能夠4年內搞定5代工藝,還表示稱,今年內英特爾要實現1.8nm芯片的流片。

不僅如此,英特爾還表示,在進入20A工藝時,會采用GAA晶體管,放棄之前的FinFET晶體管。另外在20A、18A上,還會首發兩大突破性技術,也就是RibbonFET和PowerVia。

其中RibbonFET是英特爾全新的晶體管架構技術,而PowerVia是Intel獨有的、業界首個背面電能傳輸網絡,能夠顯著提升芯片性能,降低功耗。

何謂流片?就是像流水線一樣通過一系列工藝步驟制造芯片,也可以說就是試產芯片,是位于設計與量產之間的一個環節,也可以稱之為小規模試產,生產出幾片,或者幾十上百片來測試。

一般來說,流片就是檢驗芯片是否成功的一個環節,如果流片成功,同時芯片也點亮,達到設計時的要求,那么后續就可以直接按照流片時的各項參數,進行量產了,如果流片不成功,就要不斷修改調整,直到成功。

所以英特爾表示年內流片,即證明1.8nm的芯片已經設計出來,同時具備了晶圓制造的能力和條件。

今年三星還在生產3nm,而臺積電也還在小規模生產3nm,兩者表示2nm還表示要2025年才能夠量產,估計目前還沒有進行流片,所以這次確實算是intel領先了。

接下來就看三星、臺積電、英特爾這三大廠商,在先進工藝上如何競爭了,其它晶圓廠們,就搬凳子看戲吧,反正也沒資格參與。



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