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SK 海力士:采用 EUV 技術的第四代 10 納米級 DRAM 開始量產
三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設 EUV 晶圓廠
ASML 將赴韓國EUV設備再制廠及培訓中心,預計在 2025 年完成建設
ASML 將于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防護膜,提高光刻機效率
芯華章完成超4億元Pre-B輪融資 加速新一代EDA技術研發;ASML開始供應透射率超過90%薄片的EUV系統
日本富士膠片或啟動EUV光刻膠業務,希望在2024年之前獲得10%市占
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