- 中國芯的好消息：EUV光刻機(jī)沒有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
- 臺(tái)積電認(rèn)栽了，將購買2納米EUV光刻機(jī)，不然搞不定2納米工藝
- 華為很清醒：別想3nm、5nm，目前7nm工藝對(duì)中國芯最重要
- 英特爾欲借14A工藝重回晶圓代工領(lǐng)先地位，臺(tái)積電能“答應(yīng)”嗎？
- 前途末路！ASML陷入“工藝陷阱”，EUV光刻機(jī)走進(jìn)了死胡同？
- 三星下半年將量產(chǎn)3nm工藝，要拿下英偉達(dá)訂單最大阻礙是什么？
- 消息稱蘋果高管訪問臺(tái)積電，將包圓其所有初期 2nm 工藝產(chǎn)能
- intel要開倒車？新CPU采用4nm工藝，但要降頻，砍線程
- 臺(tái)積電將用舊款光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)1.6納米，給中國芯研發(fā)先進(jìn)工藝啟發(fā)
- 形勢很嚴(yán)峻：先進(jìn)芯片占比達(dá)到57%，成熟工藝很危險(xiǎn)了
